标题 |
Highly conductive p-type nc-SiOX:H thin films deposited at 130°C via efficient incorporation of plasma synthesized silicon nanocrystals and their application in SHJ solar cells
等离子体合成硅纳米晶130℃高导电p型nc-SiOX:H薄膜及其在SHJ太阳电池中的应用
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
退火(玻璃)
晶体硅
硅
电导率
体积分数
化学工程
分析化学(期刊)
化学气相沉积
纳米技术
光电子学
复合材料
化学
工程类
物理化学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|