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Characteristic Study of Silicon Nitride Films Deposited by LPCVD and PECVD

材料科学 等离子体增强化学气相沉积 氮化硅 化学气相沉积 氮化物 光电子学 硅 化学计量学 化学工程 纳米技术 化学 有机化学 图层（电子） 工程类
作者
Chris Yang,John Pham
出处
期刊：Silicon [Springer Nature]
日期：2018-04-13 卷期号：10 (6): 2561-2567 被引量：57
标识
DOI：10.1007/s12633-018-9791-6
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