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 Effect of Alkaline pH on Polishing and Etching of Single and Polycrystalline Silicon 碱性pH值对单晶硅和多晶硅抛光和刻蚀的影响
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：R. Venkatesh; Y. Nagendra Prasad; Tae-Young Kwon; Young-Jae Kang; Jin-Goo Park 出版日期：2012-06-20 |
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