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 Effects of deposition temperature on the mechanical and physical properties of silicon nitride thin films 沉积温度对氮化硅薄膜力学和物理性能的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Byron Walmsley; Yinong Liu; Xiaozhi Hu; Mark B. Bush; K.J. Winchester; et al 出版日期：2005-08-15 |
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