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Effects of Interface Traps and Hydrogen on the Low-Frequency Noise of Irradiated MOS Devices
界面陷阱和氢对辐照MOS器件低频噪声的影响
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期刊:IEEE Transactions on Nuclear Science 作者:Daniel M. Fleetwood; En Xia Zhang; Ronald D. Schrimpf; Sokrates T. Pantelides; Stefano Bonaldo 出版日期:2023-10-10 |
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