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标题
Ferroelectric hafnium oxide: A CMOS-compatible and highly scalable approach to future ferroelectric memories
铁电氧化铪：未来铁电存储器的CMOS兼容和高度可扩展方法
相关领域
铁电性 电容器 可扩展性 CMOS芯片 材料科学 钙钛矿（结构） 非易失性存储器 光电子学 氧化物 铁电电容器 电气工程 铪 计算机科学 电子工程 电介质 工程类 电压 化学 操作系统 结晶学 冶金 锆
网址
https://doi.org/10.1109/iedm.2013.6724605
DOI
10.1109/iedm.2013.6724605 doi
其它 期刊：
作者：Johannes Müller; T. S. Böscke; Stefan Müller; Ekaterina Yurchuk; P. Polakowski; et al
出版日期：2013-12-01
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默默的爆米花 在 2024-11-09 00:24:13 发布自美国，悬赏 10 积分
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