Scaling of MoS2 Transistors and Inverters to Sub-10 nm Channel Length with High Performance

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标题	Scaling of MoS2 Transistors and Inverters to Sub-10 nm Channel Length with High Performance MoS2晶体管和反相器的高性能扩展至10 nm以下沟道长度相关领域材料科学单层二硫化钼晶体管光电子学制作悬空债券场效应晶体管短通道效应半导体纳米技术 MOSFET 硅电气工程电压医学替代医学工程类病理冶金
网址	https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.3c00031
DOI	10.1021/acs.nanolett.3c00031 doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Jinpeng Tian; Qinqin Wang; Xudan Huang; Jian Tang; Yanbang Chu; et al 出版日期：2023-04-03
求助人	cai 在 2024-06-05 17:15:27 发布自江苏，悬赏 10 积分
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