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 Self-assembly of octadecyltrichlorosilane monolayers on silicon-based substrates by chemical vapor deposition 化学气相沉积法在硅基衬底上自组装十八烷基三氯氢硅单层
相关领域
十八烷基三氯氢硅
单层
接触角
硅
化学气相沉积
材料科学
自组装单层膜
纳米技术
化学工程
硅烷
基质（水族馆）
X射线光电子能谱
化学
分析化学（期刊）
光电子学
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海洋学
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期刊：Thin Solid Films 作者：Jinsheng Dong; Anfeng Wang; K. Y. Simon Ng; Guangzhao Mao 出版日期：2006-12-01 |
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