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 Influence of the SiO2 interlayer thickness on the density and polarity of charges in Si/SiO2/Al2O3 stacks as studied by optical second-harmonic generation 用光学二次谐波产生研究SiO2夹层厚度对Si/SiO2/Al2O3堆叠中电荷密度和极性的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：N. M. Terlinden; G. Dingemans; Vincent Vandalon; R. H. E. C. Bosch; W. M. M. Kessels 出版日期：2014-01-16 |
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