The metal-organic chemical vapor deposition and properties of III–V antimony-based semiconductor materials

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标题	The metal-organic chemical vapor deposition and properties of III–V antimony-based semiconductor materials III-V族锑基半导体材料的金属有机化学气相沉积及其性能相关领域锑化学气相沉积金属有机气相外延掺杂剂材料科学表征（材料科学）纳米技术第2组金属有机化学半导体沉积（地质）工程物理兴奋剂冶金化学光电子学外延有机化学物理地质学分子古生物学图层（电子）沉积物
网址	http://dx.doi.org/10.1016/S0927-796X(02)00002-5
DOI	10.1016/S0927-796X(02)00002-5 doi
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