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The metal-organic chemical vapor deposition and properties of III–V antimony-based semiconductor materials

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作者
R. M. Biefeld
出处
期刊:Materials Science and Engineering R [Elsevier]
卷期号:36 (4): 105-142 被引量:131
标识
DOI:10.1016/s0927-796x(02)00002-5
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