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标题
Plasma Etch Variation Control in Double Patterning Based Metal Hard Mask Open Process
基于双图案化的金属硬掩模开放工艺中等离子体刻蚀变化的控制
相关领域
薄脆饼 互连 材料科学 沟槽 多重图案 蚀刻（微加工） 光电子学 纳米技术 图层（电子） 计算机科学 抵抗 计算机网络
网址
https://doi.org/10.1149/ma2018-01/17/1193
DOI
10.1149/ma2018-01/17/1193 doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Shijing Wang; Da-Lin Yao; Jingyong Huang; Minda Hu; Ke-Fang Yuan; et al
出版日期：2018-04-13
求助人
Mr_龙在天涯 在 2025-03-14 14:25:55 发布自新加坡，悬赏 10 积分
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