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  Development of electron beam lithography technique for large area nano structural color 大面积纳米结构彩色电子束光刻技术的发展
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Sung-Won Youn; Kenta Suzuki; Hiroshi Hiroshima; Shunichi Toda; Satoshi Nagai 出版日期：2024-01-17 |
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