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 Atomic layer etching of Al2O3 with NF3 plasma fluorination and trimethylaluminum ligand exchange NF3等离子体氟化和三甲基铝配体交换原子层刻蚀Al2O3
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jihyun Kim; Dahee Shim; Yong‐Jae Kim; Heeyeop Chae 出版日期：2022-04-22 |
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