Influence of Si-Doping on 45 nm Thick Ferroelectric ZrO2 Films - 科研通

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标题	Influence of Si-Doping on 45 nm Thick Ferroelectric ZrO2 Films Si掺杂对45 nm厚ZrO2铁电薄膜的影响相关领域材料科学铁电性兴奋剂正交晶系掺杂剂四方晶系拉曼光谱居里温度单斜晶系薄膜分析化学（期刊）矿物学光电子学凝聚态物理结晶学电介质晶体结构纳米技术光学化学物理色谱法铁磁性
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.2c00608
DOI	10.1021/acsaelm.2c00608 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Bohan Xu; Patrick D. Lomenzo; Alfred Kersch; Thomas Mikolajick; Uwe Schroeder 出版日期：2022-07-05
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