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[高分]
 Enhanced Corner Sharpness in DMD-Based Scanning Maskless Lithography Using Optical Proximity Correction and Genetic Algorithm 基于光学邻近校正和遗传算法的DMD扫描无掩模光刻增强拐角清晰度
相关领域
光学
平版印刷术
遗传算法
无光罩微影
计算机科学
材料科学
物理
算法
电子束光刻
抵抗
纳米技术
图层（电子）
机器学习
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期刊：Optics Express 作者：Chao-Li Weng; Chun-Ying Wu; Yung-Chun Lee 出版日期：2024-11-20 |
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