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标题
Towards tilt-free in plasma etching
在等离子体刻蚀中实现无倾斜
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6439/ac2bae
DOI
10.1088/1361-6439/ac2bae doi
其它 期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering
作者：Xiwen Tang; Haimiao Zhang; Yuanwei Lin; Yongqin Cui; Zihan Dong; et al
出版日期：2021-09-30
求助人
重要灵竹 在 2024-12-23 22:06:31 发布自新疆，悬赏 10 积分
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