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标题
Epitaxial Growth of Highly Sb-Doped Ge on p-Ge (100) for Vertical Transistor Applications
垂直晶体管用p-Ge(100)上高Sb掺杂Ge的外延生长
相关领域
结晶度 掺杂剂 材料科学 外延 兴奋剂 光电子学 基质(水族馆) 分子束外延 整改 二极管 掺杂剂活化 晶体管 纳米技术 图层(电子) 复合材料 电气工程 海洋学 工程类 电压 地质学
网址
DOI
10.1149/10202.0147ecst doi
其它 期刊:ECS Transactions
作者:Rahmat Hadi Saputro; Ryo Matsumura; Naoki Fukata
出版日期:2021-05-07
求助人
云过半山 在 2025-02-20 14:26:52 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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