A model for etching of three-dimensional high aspect ratio silicon structures in pulsed inductively coupled plasmas

已完结

文献求助详情

标题	A model for etching of three-dimensional high aspect ratio silicon structures in pulsed inductively coupled plasmas 脉冲电感耦合等离子体中三维高纵横比硅结构的刻蚀模型相关领域感应耦合等离子体蚀刻（微加工）等离子体硅材料科学等离子体刻蚀光电子学纳米技术分析化学（期刊）化学物理核物理学环境化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6595/aadb4b
DOI	10.1088/1361-6595/aadb4b doi
其它	期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：J-C Wang; Wei Tian; Shahid Rauf; Samaneh Sadighi; Jason Kenney; et al 出版日期：2018-08-20
求助人	zz 在 2025-01-15 00:41:24 发布自上海，悬赏 10 积分
下载	求助已完成，仅限求助人下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

National Center for Biotechnology Information

上个求助

下个求助

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

科研通，让科研之路畅通无阻

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2024年影响因子查询已上线 (2024-6-20)

更新

大幅提高文件上传限制，最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: 务实的不悔完成签到，获得积分10

刚刚; 果子完成签到，获得积分10

刚刚; 青辞发布了新的文献求助10

刚刚; 汉堡包上传了应助文件

1秒前; 领导范儿上传了应助文件

1秒前; 香蕉觅云上传了应助文件

1秒前; cjdsb完成签到，获得积分10

1秒前; 慕青上传了应助文件

2秒前; zq完成签到，获得积分10

3秒前; clattj完成签到，获得积分10

4秒前; CodeCraft上传了应助文件

4秒前; JamesPei的应助被e746700020采纳，获得10

4秒前; 活力的bird发布了新的文献求助10

5秒前; shimenwanzhao完成签到，获得积分10

5秒前; 郭小胖14发布了新的文献求助10

6秒前; 火星上白羊完成签到，获得积分10

7秒前; 大模型上传了应助文件

8秒前; 愉快的孤晴完成签到，获得积分10

8秒前; 罐子发布了新的文献求助10

8秒前; DDDDD完成签到，获得积分10

8秒前; 微笑向日葵完成签到，获得积分10

8秒前; jujishou1566完成签到，获得积分10

8秒前; LIXI完成签到，获得积分20

8秒前; 自然的晓筠发布了新的文献求助10

9秒前; 顾矜上传了应助文件

9秒前; Muya发布了新的文献求助10

10秒前; 加菲丰丰的应助被上官听白采纳，获得30

11秒前; 白刀发布了新的文献求助10

11秒前; YifanWang的应助被shimenwanzhao采纳，获得10

11秒前; 科研通AI2S的应助被Revovler采纳，获得10

11秒前; 完美世界的应助被青辞采纳，获得10

12秒前; 莫名其妙完成签到，获得积分0

12秒前; Zzz发布了新的文献求助10

13秒前; 小二郎上传了应助文件

13秒前; 带头大哥的应助被gy79210采纳，获得200

13秒前; Aoevr完成签到，获得积分10

14秒前; lalala上传了应助文件

14秒前; 喜悦鹤轩发布了新的文献求助10

14秒前; 张于小丸子完成签到，获得积分10

14秒前; hxy发布了新的文献求助10

15秒前