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 Characteristics of a Monodisperse PHS-Based Positive Resist (MDPR) in KrF Excimer Laser Lithography KrF准分子激光光刻中单分散PHS基正性抗蚀剂的特性
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yoshio Kawai; Akinobu Tanaka; Tadahito Matsuda 出版日期：1992-12-01 |
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