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![]() 铁电层厚度在Hf0.5Zr 0.5 O2基结构电阻开关和去极化效应中的作用
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Ilya A. Savichev; Ilya Margolin; Р. И. Романов; Anastasia Chouprik 出版日期:2025-01-01 |
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