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 Investigation for the structural stress of SiO2 thin films and its distribution on the large-wafer created by plasma enhanced chemical vapor deposition 等离子体增强化学气相沉积SiO2薄膜的结构应力及其在大晶片上的分布
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期刊：AIP Advances 作者：DeGui Sun; Qingyu Sun; Wenchao Xing; Zheyu Sun; Hongpeng Shang; et al 出版日期：2018-08-01 |
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