标题 |
Detecting Wafer-Level Cu Pillar Defects using Advanced 3D X-ray Microscopy (XRM) with Submicron Resolution
使用具有亚微米分辨率的先进3D X射线显微镜(XRM)检测晶圆级铜柱缺陷
相关领域
薄脆饼
材料科学
支柱
显微镜
X射线
分辨率(逻辑)
固体力学
光学
复合材料
纳米技术
机械工程
工程类
计算机科学
物理
人工智能
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Failure Analysis and Prevention 作者:Susan Li; J W Frame; Edita Madriaga-Berry; Jose Hulog; Ming Zhang; et al 出版日期:2024-09-17 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|