Ultra-wideband far-infrared absorber based on anisotropically etched doped silicon

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标题	Ultra-wideband far-infrared absorber based on anisotropically etched doped silicon 基于各向异性刻蚀掺杂硅的超宽带远红外吸收剂相关领域材料科学硅光学远红外光电子学镜面反射薄脆饼红外线的太赫兹辐射宽带反射（计算机编程）吸收（声学）多孔硅蚀刻（微加工）纳米技术物理程序设计语言图层（电子）计算机科学
网址	https://doi.org/10.1364/ol.382458 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1364/ol.382458 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Xiaolong You; Aditi Upadhyay; Yongzhi Cheng; Madhu Bhaskaran; Sharath Sriram; et al 出版日期：2020-01-21
求助人	LLY 在 2025-03-04 10:01:17 发布自湖北，悬赏 10 积分
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