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  Structure and Electrical Behavior of Hafnium-Praseodymium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition 原子层沉积法生长氧化铪-镨薄膜的结构和电学行为
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期刊：Materials 作者：Kaupo Kukli; Lauri Aarik; Guillermo Vinuesa; S. Dueñas; Helena Castán; et al 出版日期：2022-01-24 |
| 求助人 |
yuan
在
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