Nanometer-scale wafer surface defect measurement based on state-space digital holographic microscopy

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标题	Nanometer-scale wafer surface defect measurement based on state-space digital holographic microscopy 基于状态空间数字全息显微技术的纳米级晶圆表面缺陷测量相关领域数字全息显微术薄脆饼纳米全息术显微镜材料科学晶圆规模集成数字全息术纳米尺度比例（比率）曲面（拓扑）光学光电子学纳米技术物理复合材料几何学数学量子力学
网址	https://doi.org/10.1117/12.3057372
DOI	10.1117/12.3057372 doi
其它	期刊：作者：Shuo Geng; Lingyu Ai; Yujia Gao; Zhi Yong Gan; Yingjie Xiao; et al 出版日期：2025-02-25
求助人	天天向上赶在 2025-03-07 11:36:51 发布自上海，悬赏 20 积分
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