Breaking the Ultraviolet Lithography Limit to Achieve Submicron Quantum Dot Light-Emitting Array Devices

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标题	Breaking the Ultraviolet Lithography Limit to Achieve Submicron Quantum Dot Light-Emitting Array Devices 打破紫外光刻极限实现亚微米量子点发光阵列器件相关领域量子点平版印刷术极限（数学）紫外线光电子学极紫外光刻紫外线材料科学计算光刻光学物理纳米技术多重图案抵抗数学分析数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1021/acsmaterialslett.4c02624
DOI	10.1021/acsmaterialslett.4c02624 doi
其它	期刊：ACS Materials Letters 作者：Yuan Qie; Hailong Hu; Kuibao Yu; Rui Wu; Chao Zhong; et al 出版日期：2025-03-06
求助人	木木在 2025-03-08 22:44:18 发布自福建，悬赏 10 积分
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