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Control of GaN surface morphologies using plasma-assisted molecular beam epitaxy
利用等离子体辅助分子束外延控制GaN表面形貌
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:B. Heying; R. Averbeck; L. F. Chen; E. Haus; H. Riechert; et al 出版日期:2000-08-15 |
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