Etching approaches for next generation EUV photomask materials

已完结

文献求助详情

标题	Etching approaches for next generation EUV photomask materials 下一代EUV光掩模材料的蚀刻方法
网址	https://doi.org/10.1117/12.3035201
DOI	10.1117/12.3035201 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2024 作者：Jeff Chen; Rebecca Stern; Rao Yalamanchili; Yohei Ikebe; Takahiro Onoue; et al 出版日期：2024
求助人	小张真的困啦在 2025-02-17 14:49:15 发布自中国，悬赏 20 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。

上个求助

下个求助

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

有了科研通，下载文献真轻松！

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: charon完成签到，获得积分10

刚刚; 丹妮完成签到，获得积分10

1秒前; 翔翔超人发布了新的文献求助10

3秒前; 苹果小天鹅关注了科研通微信公众号

4秒前; ZS完成签到，获得积分10

4秒前; 可爱的函函上传了应助文件

5秒前; 小白发布了新的文献求助10

6秒前; 清修发布了新的文献求助10

7秒前; 鸽鸽完成签到，获得积分10

8秒前; orange9发布了新的文献求助10

9秒前; 赘婿上传了应助文件

11秒前; 赘婿的应助被baronge采纳，获得10

15秒前; 顾矜上传了应助文件

15秒前; 慕容松完成签到，获得积分10

15秒前; 柔弱又夏完成签到，获得积分10

16秒前; 情怀上传了应助文件

18秒前; huhu发布了新的文献求助10

18秒前; 毛豆的应助被7907采纳，获得10

19秒前; 彭于晏上传了应助文件

19秒前; 天天快乐上传了应助文件

21秒前; Aya发布了新的文献求助10

22秒前; 毛豆zz发布了新的文献求助10

22秒前; Mystic完成签到，获得积分10

23秒前; Ant1body完成签到，获得积分10

23秒前; 打打上传了应助文件

24秒前; Mystic发布了新的文献求助10

25秒前; chloe关注了科研通微信公众号

27秒前; 毛豆上传了应助文件

27秒前; 糖醋里脊加醋发布了新的文献求助10

27秒前; 江任意西完成签到，获得积分10

28秒前; CXY完成签到，获得积分20

28秒前; drleoyb发布了新的文献求助10

29秒前; 小蘑菇的应助被Laaaaa采纳，获得10

30秒前; Jasper上传了应助文件

31秒前; zerowey发布了新的文献求助10

35秒前; 英俊的铭上传了应助文件

36秒前; drleoyb完成签到，获得积分10

36秒前; JamesPei的应助被狗咚嘻采纳，获得10

36秒前; nihao完成签到，获得积分10

36秒前; 风趣从露发布了新的文献求助10

39秒前