标题 |
![]() 高K金属栅极虚拟多晶硅去除工艺中N/P分裂边界轮廓的改进
相关领域
NMOS逻辑
PMOS逻辑
薄脆饼
金属浇口
临界尺寸
材料科学
超大规模集成
电子工程
MOSFET
过程(计算)
蚀刻(微加工)
阈值电压
边界(拓扑)
光电子学
电压
晶体管
电气工程
计算机科学
工程类
纳米技术
物理
光学
栅氧化层
数学
数学分析
图层(电子)
操作系统
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|