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Levet-set-based inverse lithography under random field shape uncertainty in a vector Hopkins imaging model
矢量Hopkins成像模型中随机场形状不确定性下基于Levet-set的逆光刻
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网址
https://doi.org/10.1364/cosi.2017.cw1b.4
DOI
10.1364/cosi.2017.cw1b.4 doi
其它 期刊：
作者：Xiaofei Wu; Tim Fühner; Andreas Erdmann; Edmund Y. Lam
出版日期：2017-01-01
求助人
勤劳怜寒 在 2025-01-08 22:57:11 发布自四川，悬赏 10 积分
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