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 Synergy between Chemical Dissolution and Mechanical Abrasion during Chemical Mechanical Polishing of Copper 铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损的协同作用
相关领域
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磨损（机械）
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期刊：MRS Proceedings 作者：Wei Che; Ashraf Bastawros; Abhijit Chandra 出版日期：2005-01-01 |
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