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 Etching Characteristics and Changes in Surface Properties of IGZO Thin Films by O2 Addition in CF4/Ar Plasma CF4/Ar等离子体中添加O2对IGZO薄膜的刻蚀特性及表面性质的变化
相关领域
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期刊：Coatings 作者：Chea-Young Lee; Young-Hee Joo; Minsoo P. Kim; Doo‐Seung Um; Chang-Il Kim 出版日期：2021-07-29 |
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