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 Advances in n-Type Crystalline Oxide Channel Layers for Thin-Film Transistors: Materials, Fabrication Techniques, and Device Performance 薄膜晶体管用n型晶体氧化物沟道层的进展：材料、制造技术和器件性能
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期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：Gwang‐Bok Kim; Cheol Hee Choi; Jae Seok Hur; Jinho Ahn; Jae Kyeong Jeong 出版日期：2024-09-24 |
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