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 Investigation of nucleation and growth mechanism during electrochemical deposition of nickel on fluorine doped tin oxide substrate 氟掺杂氧化锡基体上电化学沉积镍的成核和生长机理研究
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期刊：Current Applied Physics 作者：Ali Mashreghi; Hajar Zare 出版日期：2016-05-01 |
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