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 ALD Mo for Advanced MOL Local Interconnects ALD Mo与SiO2和Al2O3化学键的差异对两种栅堆有效功函数的影响
相关领域
X射线光电子能谱
原子层沉积
工作职能
退火（玻璃）
材料科学
金属浇口
电介质
化学键
氧化物
分析化学（期刊）
微晶
高-κ电介质
栅氧化层
光电子学
化学工程
纳米技术
薄膜
图层（电子）
化学
复合材料
晶体管
冶金
电气工程
工程类
色谱法
电压
有机化学
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| 网址 | |
| DOI |
10.1109/iitc52079.2022.9881322
doi
提醒：求助人提供的doi与AI识别不一致
10.1116/6.0000964
Doi
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| 其它 |
期刊： 作者：Maryamsadat Hosseini; Davide Tierno; Jan Willem Maes; Chiyu Zhu; Sukanya Datta; et al 出版日期：2022-06-27 |
| 求助人 | |
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