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Extending growth inhibition during area-selective atomic layer deposition of Al2O3 on aminosilane-functionalized SiO2
氨基硅烷官能化SiO2上Al2O3区域选择性原子层沉积的扩展生长抑制
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期刊:Chemical Communications 作者:Wanxing Xu; Paul C. Lemaire; Kashish Sharma; Dennis M. Hausmann; Sumit Agarwal 出版日期:2022-05-13 |
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