Dry Etching of Tapered Contact Holes Using Multilayer Resist

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标题	Dry Etching of Tapered Contact Holes Using Multilayer Resist 使用多层抗蚀剂干法蚀刻锥形接触孔
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.2114259
DOI	10.1149/1.2114259 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：R. J. Saia; B. Gorowitz 出版日期：2006-06-15
求助人	爱咋咋滴在 2025-02-17 01:34:02 发布自上海，悬赏 10 积分
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