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标题
Ionizing Radiation Effect on Memory Characteristics for HfO2-Based Ferroelectric Field-Effect Transistors
电离辐射对HfO2基铁电场效应晶体管存储特性的影响
相关领域
铁电性 晶体管 辐照 场效应晶体管 物理 光电子学 材料科学 分析化学(期刊) 电介质 化学 核物理学 有机化学 量子力学 电压
网址
DOI
10.1109/led.2019.2931826 doi
求助人
李沐唅 在 2024-12-01 20:56:42 发布自贵州,悬赏 10 积分
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