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Optical emission spectroscopy as a method for evaluating the change in Si etching structures profile in ICP SF6/C4F8 plasma: Microstructures
发射光谱作为评估ICP SF6/C4F8等离子体中硅蚀刻结构分布变化的方法：微结构
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0003809
DOI
10.1116/6.0003809 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Artem A. Osipov; Alina E. Fumina; Anastasiya Speshilova; Ekaterina V. Endiiarova; A. А. Osipov; et al
出版日期：2024-09-19
求助人
GGbond 在 2024-12-25 23:42:48 发布自福建，悬赏 10 积分
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