Enhancing mask synthesis for curvilinear masks in full-chip extreme ultraviolet lithography - 科研通

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标题	Enhancing mask synthesis for curvilinear masks in full-chip extreme ultraviolet lithography 全芯片极紫外光刻中曲线掩模的增强掩模合成相关领域曲线坐标极紫外光刻平版印刷术炸薯条光学接近校正光掩模计算机科学光学材料科学物理纳米技术抵抗电信图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.22.4.041606
DOI	10.1117/1.jmm.22.4.041606 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Kevin Hooker; Guangming Xiao; Yuxun Tang; Yunqiang Zhang; Moongyu Jeong; et al 出版日期：2023-12-20
求助人	LW97 在 2024-12-27 10:21:05 发布自上海，悬赏 20 积分
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