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 Degradation of a Model Naphthenic Acid, Cyclohexanoic Acid, by Vacuum UV (172 nm) and UV (254 nm)/H2O2 真空UV（172 nm）和UV（254 nm）/H2O2降解模型环烷酸环己酸
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期刊：The Journal of Physical Chemistry A 作者：Przemysław Drzewicz; Atefeh Afzal; Mohamed Gamal El‐Din; Jonathan W. Martin 出版日期：2010-10-25 |
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