Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Films at Low Temperatures from Si2 H 6 ‐ H 2 ‐ SiF4 - 科研通

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标题	Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Films at Low Temperatures from Si2 H 6 ‐ H 2 ‐ SiF4 Si2H6-H2-SiF4低温远程等离子体增强化学气相沉积硅薄膜相关领域化学气相沉积悬空债券硅结晶度等离子体增强化学气相沉积结晶材料科学沉积（地质）化学工程氢远程等离子体分析化学（期刊）化学纳米技术有机化学复合材料冶金古生物学工程类生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1149/1.1837062
DOI	10.1149/1.1837062 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Dong‐Hwan Kim; Young‐Bae Park; Il‐Jeong Lee; Shi‐Woo Rhee 出版日期：1996-08-01
求助人	锦云在 2025-02-25 19:05:02 发布自浙江，悬赏 10 积分
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