标题 |
In-situ Investigation of the Impact of Externally Applied Vertical Stress on III-V Bipolar Transistor
外部施加垂直应力对III-V双极晶体管影响的原位研究
相关领域
双极结晶体管
原位
压力(语言学)
材料科学
晶体管
光电子学
电气工程
工程类
物理
电压
语言学
哲学
气象学
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其它 |
期刊:2021 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者:Y. Liu; Gaspard Hiblot; Mario González; Kris Vanstreels; Dimitrios Velenis; et al 出版日期:2018-12-01 |
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