标题 |
[求助补充材料] [高分] Ultrahigh-printing-speed photoresists for additive manufacturing
高速双光子光刻用灵敏光刻胶
相关领域
平版印刷术
纳米技术
材料科学
抵抗
光电子学
双光子激发显微术
光学
物理
荧光
图层(电子)
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DOI |
提醒:求助人提供的doi与AI识别不一致
10.1038/s41565-023-01518-9
Doi
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其它 |
期刊:Nature Nanotechnology 作者:Tianqi Liu; Peipei Tao; Xiaolin Wang; Hongqing Wang; Minfei He; et al 出版日期:2023-10-02 |
求助人 | |
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