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标题
Facile controlled growth of multilayer h-BN thin films using spaced-confined APCVD and its gate dielectric application
多层h-BN薄膜的空间约束APCVD可控生长及其栅介质应用
相关领域
材料科学 电介质 光电子学 栅极电介质 薄膜 纳米技术 电气工程 晶体管 工程类 电压
网址
https://doi.org/10.1039/d4ce01138d
DOI
10.1039/d4ce01138d doi
其它 期刊：CrystEngComm
作者：Yajuan Zhao; Liang Shi; Yalong Li; Qian Ma; Jialu Huang; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
木卫二 在 2025-01-18 16:03:45 发布自陕西，悬赏 20 积分
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