Effect of Hydrogen Annealing on Contact Resistance Reduction of Metal–Interlayer–n-Germanium Source/Drain Structure

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标题	Effect of Hydrogen Annealing on Contact Resistance Reduction of Metal–Interlayer–n-Germanium Source/Drain Structure 氢退火对金属-层间-n-锗源/漏结构接触电阻降低的影响相关领域锗退火（玻璃）接触电阻金属材料科学兴奋剂物理立体化学硅化学纳米技术光电子学热力学冶金图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/led.2016.2558582
DOI	10.1109/led.2016.2558582 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Gwang-Sik Kim; Gwangwe Yoo; Yujin Seo; Seung‐Hwan Kim; Karam Cho; et al 出版日期：2016-01-01
求助人	奔流的河在 2025-03-16 05:35:34 发布自中国，悬赏 10 积分
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