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 Production mechanism and reactivity of the SiH radical in a silane plasma 硅烷等离子体中SiH自由基的产生机理及反应性
相关领域
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期刊：Chemical Physics 作者：Johannes Schmitt; P. Gressier; M. Krishnan; G. De Rosny; J. Perrin 出版日期：1984-02-01 |
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