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标题
Influence of In-Situ Annealing of Si-Rich Silicon Carbide Thin Films
原位退火对富硅碳化硅薄膜的影响
相关领域
薄膜 材料科学 退火（玻璃） 无定形固体 纳米团簇 原位 分析化学（期刊） 傅里叶变换红外光谱 硅 带隙 碳化硅 非晶硅 溅射沉积 碳膜 溅射 化学工程 光电子学 纳米技术 晶体硅 结晶学 复合材料 化学 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.18311/jsst/2018/20097
DOI
10.18311/jsst/2018/20097 doi
其它 期刊：Journal of Surface Science and Technology
作者：Sam Baskar; Pratibha Nalini
出版日期：2019-01-03
求助人
ahey 在 2025-03-09 11:29:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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