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 Carrier gas flow rate effects on additive-assisted low-temperature Y2O3 film deposition by atmospheric pressure plasma jet 载气流量对添加剂辅助常压等离子体低温沉积Y2O3薄膜的影响
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Bat-Orgil Erdenezaya; Md. Shahiduzzaman; Hirochika Uratani; Ruka Yazawa; Yusuke Nakano; et al 出版日期：2025-02-12 |
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sugar
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